光学素子

アルテクナ社(Altechna) 高耐力ミラー

Altechna
アルテクナ社(Altechna) 高耐力ミラー

概要

イオンビームスパッタリング又は電子ビーム蒸着を利用した高反射・高耐力ミラーです。
波長は266nm~1550nmの間で入射角0°及び45°を取り揃えております。
また、1ヵ月に1000個の生産能力を持ち、0.19um ~20umの範囲で特注対応が可能です。

詳しくはAltechnaの 特設サイト を御覧ください。

用途

  • 産業用途

製品特長

リトアニア共和国のAltechna社は高性能なレーザー用光学素子を提供します。例えばイオンビームスパッタリングにより成膜された超低損失ミラーはローコストでありながら、最大99.995%の反射率を誇ります。その他各種オプティクスもこの製膜技術を生かし、先端的な研究開発に貢献しております。

イオンビームスパッタリング又は電子ビーム蒸着を利用した高反射・高耐力ミラーです。
波長は266nm~1550nmの間で入射角0°及び45°を取り揃えております。
また、1ヵ月に1000個の生産能力を持ち、0.19um ~20umの範囲で特注対応が可能です。

詳しくはAltechnaの 特設サイト を御覧ください。

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製品仕様

イオンビームスパッタリング又は電子ビーム蒸着を利用した高反射・高耐力ミラーです。
波長は266nm~1550nmの間で入射角0°及び45°を取り揃えております。
また、1ヵ月に1000個の生産能力を持ち、0.19um ~20umの範囲で特注対応が可能です。

例:35.2 J/㎠ @ 532nm;6.2ns;50Hz

1.7 J/㎠ @ 1030nm;305fs;1kHz の耐力

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