ナノ秒パルスレーザー
PIV用ディュアル532nmレーザー
![montfont laser](/var/plain_site/storage/images/node_59/manufacturer/montfont/10082-3-jpn-JP/_1_manufacturer-logo-m.jpg)
Montfort Laser モンフォート レーザー社
![m_nano series](/var/plain_site/storage/images/node_59/product/nanosecond-laser.html/nano-pulse/piv532nm.html/14219-15-jpn-JP/Montfont-Laser-PIV-532nm_product-thumb-ls.jpg)
概要
発振器とコントローラーが一体型のわずか4 kg以下のの小型PIV用ディュアルレーザーです。一つの筺体から異なる2つのパルスを遅延して発振することができます。
- 波長
- 532nm
- 出力
- 1.5W
用途
- 理化学用途
- 産業用途
- 計測用途
製品特長
- 小型(コントローラ一体型で<4 kg)
- パルスエネルギー:<40 mJ
- 繰返し周波数100Hzまで対応可能
ダウンロード
用途
- レーザー分析
- PIV (粒子画像流速測定法)
- LIBS(レーザー誘起ブレークダウン分光法)
- 光学素子の損傷閾値検査
- 防衛
- LIDAR
製品仕様
仕様項目/モデル | M-NANO PIV |
---|---|
パルスエネルギー (each of the 2 pulses) | up to >40 mJ @ 532nm |
パルス遅延時間 | 0 us .... 300 us |
パルス幅 (FWHM) | 8 ns (+/-5ns) |
波長 (center) | 532 nm (SHG of Nd:YAG) |
繰返し周波数 | 12.5 Hz (カスタマイズ可能) |
ビーム品質 M², typical | 3 |
サイズ (コントローラー込みの大きさ)* | 265 x 178 x 65.5 mm3 |
冷却方法 | ヒートシンク @ 0...40°C |
電源 | 24-28 VDC |
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