ナノ秒パルスレーザー
PIV用ディュアル532nmレーザー

Montfort Laser モンフォート レーザー社

概要
発振器とコントローラーが一体型のわずか4 kg以下のの小型PIV用ディュアルレーザーです。一つの筺体から異なる2つのパルスを遅延して発振することができます。
- 波長
- 532nm
- 出力
- 1.5W
用途
- 理化学用途
- 産業用途
- 計測用途
製品特長
- 小型(コントローラ一体型で<4 kg)
- パルスエネルギー:<40 mJ
- 繰返し周波数100Hzまで対応可能
ダウンロード
用途
- レーザー分析
- PIV (粒子画像流速測定法)
- LIBS(レーザー誘起ブレークダウン分光法)
- 光学素子の損傷閾値検査
- 防衛
- LIDAR
製品仕様
仕様項目/モデル | M-NANO PIV |
---|---|
パルスエネルギー (each of the 2 pulses) | up to >40 mJ @ 532nm |
パルス遅延時間 | 0 us .... 300 us |
パルス幅 (FWHM) | 8 ns (+/-5ns) |
波長 (center) | 532 nm (SHG of Nd:YAG) |
繰返し周波数 | 12.5 Hz (カスタマイズ可能) |
ビーム品質 M², typical | 3 |
サイズ (コントローラー込みの大きさ)* | 265 x 178 x 65.5 mm3 |
冷却方法 | ヒートシンク @ 0...40°C |
電源 | 24-28 VDC |
この製品についてのお問合せ・資料請求
製品カタログのご請求、その他、各種お問合せを、こちらのメールフォームにて承っております。
※弊社の個人情報取り扱いについてプライバシーポリシーをご確認の上、お問い合わせください。