イオンビームスパッタリング又は電子ビーム蒸着を利用した高反射・高耐力ミラーです。
波長は266nm～1550nmの間で入射角0°及び45°を取り揃えております。
また、1ヵ月に1000個の生産能力を持ち、0.19um ～20umの範囲で特注対応が可能です。

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Altechnaの薄膜ポラライザーは、高エネルギーアプリケーションに最適です。
グランテーラーレーザ偏光プリズムや偏光キューブビームスプリッタに置き換えて使うことができます。 
通常BK7又はUVFSの誘電体コート付きブリュースタ薄膜ポラライザーは、高エネルギーレーザー光のs偏光成分とp偏光成分を分岐する光学素子で、共振器の内部もしくは外部で使用することができます。消光比Tp/Tsは最大で1000：1となっております。フェムト秒レーザーに適した広帯域薄膜ポラライザーもご用意しております。
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Atechnaのアッテネーターは高い耐力を持つλ/2波長板とPBSを用いることで、連続可変が可能な出力調整を行うことができます。シンフィルムポラライザーを用いることでフェムト秒レーザーにも対応可能です。

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S波長板は、入射直線偏光をラジアル偏光やアジマス偏光に変換する特殊な構造の波長板です。S波長板は、入射円偏光を、角運動量を持つ光に変換するのにも使うことができます。損傷閾値が高いのが特徴で、液晶素子の少なくとも100倍以上高い値を示します。S波長板は、UVFSバルク内に形成されます。 

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偏光キューブは、特定波長（250～2200 nm）で最適化された4つの入出射面にARコートが施されています。キューブ型偏光ビームスプリッタは、ランダム偏光の光を2つの直交する直線偏光に分けることができます（s偏光は90°方向に反射、p偏光は透過）。ビームスプリッタは、一組の高精度直角プリズムを接合したもので、一方のプリズムの斜面に誘電体コートが施されています。Altechnaでは標準クラスのPBSと高エネルギーパルスレーザー向けPBSをご用意しております。
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Atechnaのビームエクスパンダーはレーザー耐力が高く、波面収差が低く抑えられているため、微細加工の用途に適しています。

リトアニア共和国のAltechna社は高性能なレーザー用光学素子を提供します。例えばイオンビームスパッタリングにより成膜された超低損失ミラーはローコストでありながら、最大99.995%の反射率を誇ります。その他各種オプティクスもこの製膜技術を生かし、先端的な研究開発に貢献しております。

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Atechnaの波長板は品質に対するコストパフォーマンスが非常に高く、単一波長板、大口径波長板、広帯域波長板、高耐力波長板、2波長波長板及び中赤外波長板がございます。

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